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10mm 厚さのアニールタンタル丸板 ASTM B708 Ta ディスク

名前: タンタルディスク
グレード: RO5200 RO5400 RO5252 RO5255
厚さ: 0.2~50mm
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PVDコーティング 半導体コーティングと光学コーティングのためのタンタルスプッターターゲット

名前: PVDコーティング タンタル ターゲット
グレード: RO5200 RO5400 RO5252 RO5255
純度: ≥99.95%
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熱交換器用のタントラム・ウォルフスタン合金プレート

名前: タンタルム・ウォルフスタン合金板
グレード: RO5252 (Ta-2.5W),RO5255 (Ta-10W)
厚さ: 0.07~10mm
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Ta-2.5W Ta-10W 明るいタンタンタンタンタンステン合金線 0.1mm 0.2mm

名前: タンタルム・ウォルフスタン合金ワイヤ
グレード: RO5252 (Ta-2.5W),RO5255 (Ta-10W)
直径: Φ0.1-Φ2.0mm
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明るいアニールされたニオビウム標的 Nb1 Nb2 RO4200 ニオビウムコーティングターゲット

名前: ナイオビウムコーティング目標
直径: ミニ 25mm
厚さ: ミニ 3mm
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Nb1 Nb2 RO4200 高純度ナイオビウムシート 3.0mm 5.0mm

名前: ニオブシート
純度: 99.95%99.99%
グレード: Nb1,Nb2,RO4200,RO4210
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製品名: タンタル毛細管
純度: 99.95% 99.99%
グレード: RO5200,RO5400,Ta1,Ta2,RO5252,RO5255
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99.95% 99.99% Ta1 Ta2.5W 稀土の溶融のためのタンタルス溶融器

製品名: 99.95% 99.99% タンタル 溶融器
純度: 99.95% 99.99%
形状: 坩堝
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高温炉のためのMoSi2モリブデンのDisilicideのヒート ロッド

製品名: モリブデンのDisilicideのヒート ロッド
放射率: 0.7~0.8 (800~2000℃)
吸水: 0.5%
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箱の抵抗炉のためのUのタイプ モリブデンのケイ化物の発熱体

融点: 2030℃
実用温度: 1600~1800°C
形態: 固体
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