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デイヴィッド素晴らしいサービスおよび良質および高い評判のよい会社。私達の信頼できる製造者の1つは時間および素晴らしいパッケージで、商品渡される。 -
ジョンMorris設計デッサンの問題および私達とのコミュニケーションの物質的な専門家、厳密な処理、時機を得た発見、思慮深いサービス、適正価格および良質、私は私達により多くの協同があることを信じる。 -
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PVDコーティング 半導体コーティングと光学コーティングのためのタンタルスプッターターゲット
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x商品の詳細
| 名前 | PVDコーティング タンタル ターゲット | グレード | RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
|---|---|---|---|
| 純度 | ≥99.95% | 密度 | 16.68g/cm3 |
| 表面 | 機械で造られた表面 | スタンダード | ASTM B708 |
| 配達状況 | 焼いたもの | 形状 | 平面標的 旋回標的 特殊形状のカスタマイズ |
| ハイライト | 光学コーティングタンタル目標,PVDコーティング タンタルススプッター対象,半導体コーティング タンタルススプッティング ターゲット |
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製品の説明
製品情報:
| 名前 | PVDコーティングタンタル目標 |
| グレード | RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| 純度 | ≥99.95% |
| 密度 | 16.68g/cm3 |
| 表面 | 機械加工された表面,穴,傷,汚れ,傷,その他の欠陥がない |
| スタンダード | ASTM B708 |
| 形状 | フラットターゲット,回転ターゲット,特別な形状のカスタマイズ |
PVDコーティングタンタルミストの化学含有量
| グレード | 主要な要素 | 汚れの含有量は%未満 | |||||||||||
| タ | Nb | フェ | そうだ | ニ | W | モー | ティ | Nb | オー | C について | H | N | |
| タ1 | 待って | ほら | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| タ2 | 待って | ほら | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | 0.1 | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| タンb3 | 待って | <3.5 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | ほら | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| タンb20 | 待って | 17.0 ¥230 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | ほら | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| Ta2.5W | 待って | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 3 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
| タ10W | 待って | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 11 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
PVDタンタルターゲットの特徴:
高度な溶融点
低蒸気圧で
冷たい状態で動作する性能が良い
高化学的安定性
液体金属の腐食に強い耐性
表面酸化フィルムは,大きな介電常数を持っています
適用:
タンタラム標的と銅バック標的は 溶接され,その後半導体または光学噴射が行われますそしてタンタル原子は酸化物として基板材料に堆積され,噴射コーティングが得られる.半導体コーティング,光学コーティング,その他の産業で主に使用されます.金属 (Ta) は現在,主に対象材料として物理蒸気堆積 (PVD) を通して壁層を覆い,形成するために使用されています..
顧客の図面に従って処理し,タ棒,プレート,ワイヤー,ホイル,ピッチなどを生産することができます.
詳細の情報のために問い合わせを送ってください.
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