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高純度スプッターコーティングタンタルムターゲットタンタルムディスクターゲット99.95% 99.999%

起源の場所	中国
ブランド名	PRM
証明	ISO9001
モデル番号	カスタム
最小注文数量	1pc
価格	Negotiate
パッケージの詳細	パライウッドケース
受渡し時間	7~10の仕事日
支払条件	T/T,L/C
供給の能力	5000kg/月

試供品およびクーポンのための私に連絡しなさい。

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商品の詳細

名前	タンタルスプッターコーティングのターゲット	グレード	RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
純度	99.95% 99.99%	形状	ディスク&プレート
サイズ	顧客のデッサンによって	密度	16.75g/cm3

メッセージ

製品の説明

高純度スプッターコーティングタンタルムターゲットタンタルムディスクターゲット

1仕様スプッターコーティングタンタルムターゲット:

スプッターコーティングタンタルターゲット

材料:R05200,R05400,R05252 (Ta-2.5W),R05255 (Ta-10W)

円形標的: 半径25mm~400mm x 厚さ3mm~28mm

直角型標的:厚さ1mm ~ 12.7mm × 幅 < 600mmx 長さ < 2000mm

純度: >=99.95%または99.99%

表面: 明るい,磨いた

状態: 焼却済み

ご要望に応じることもできます

グレード	3N,3N5,4N,Ta 99.99%min
再結晶化	95%分
粒の大きさ	ASTM 4 以上の精度
表面仕上げ	最大16RmsまたはRa0.4 (RMS64以上)
平らさ	0.1mmまたは最大0.15%
許容性	すべての次元で+/-0.010"

高純度スプッターコーティングタンタルムターゲットタンタルムディスクターゲット99.95% 99.999% 0

2化学成分スプッターコーティングタンタルムターゲット:

グレード	元素含有量 (wt)%)
グレード	C について	N	オー	H	フェ	そうだ	ニ	ティ	モー	W	Nb	タ
タ1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	待って
タ2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	待って
タンb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~35	待って
タンb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17~23	待って
タンb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35~42	待って
タワ25	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~35	0.5	待って
タワ75	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	待って
タW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	待って

3適用するスプッターコーティングタンタルムターゲット:

タンタルスプッターターゲットは,圧力加工によって得られたタンタルスシートである.高化学純度,小粒度,再結晶構造,三軸の良好な一貫性がある.主に光ファイバーに使用されます半導体ウエーファーと集積回路.スプッター堆積コーティングでは,タンタルムターゲットはカソードスプッターコーティング,高真空ゲッター活性材料などに使用することができます.薄膜技術の重要な材料です.

4スプッターコーティング標的の利点は

- 高品質の磨きされた表面
- 密集した微細構造の均質な粒子が使用時間を延長します.

- プロフェッショナルなアフターサービス

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