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マグネトロンの放出させるコーティングのためのPVDアーク イオン モリブデンのタングステンの合金の版ターゲット
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x商品の詳細
| 名前 | マグネトロンのコーティングPVD放出させるアーク イオンめっきのためのタングステン モリブデンの合金の版ターゲット | 材料 | タングステン モリブデン合金 |
|---|---|---|---|
| 形状 | 版ターゲット | 厚さ | 3~25mm |
| 幅 | 200~610mm | 長さ | ≤1500 mm |
| 表面 | 磨いたもの | 州 | 焼いたもの |
| ハイライト | モリブデンのタングステンの合金の版ターゲット,25mmのモリブデンのタングステン ターゲット,磨かれたモリブデンのタングステン ターゲット |
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製品の説明
マグネトロンスプッティングコーティングのためのターゲット,PVDアーチイオンコーティング
1. PVDのためのウォルフタンモリブデン合金板のターゲットに関する情報:
ターゲットは高純度で薄膜堆積技術で広く使用されている高純度で薄膜堆積材料である.仕様について詳しく説明します.ワルフタン・モリブデン合金板の技術パラメータと用途
2仕様ターンブリン・モリブデン合金板の標的 PVD:
ターゲットは通常,一定比例でウルグスタンとモリブデン混合によって作られます.ターンフスタン・モリブデン合金板のターゲットのウルフスタン含有量は80%~90%モリブデンの含有量は10%~20%です.
その仕様は,一般的に異なるアプリケーション要件に応じてカスタマイズされています.一般的なサイズは,直径50mm,直径100mm,平方100mm*100mmなどです.
| 幅 インチ (mm) | 厚さ インチ (mm) | 厚さの許容量 インチ (mm) |
| ≤12 (305) | ≥0.005~0.01 (0.13~0.25) |
±0.001(±0.0254) |
| ≥0.01~0.02 (0.25~0.51) | ±0.002 (±0.0508) | |
| ≥0.02 (0.51) | ±10% | |
| ≥12~14 (305~610) | ≥0.01~0.025 (0.25~0.64) | ±0.0025 (±0.0635) |
| ≥0.025 (0.64) | ±10% | |
| ≥24~30 (610~762) | ≥0.016~0.03 (0.41~0.76) | ±0.003 (±0.0762) |
| ≥0.03 (0.76) | ±10% | |
| ≥30~48 (762~1219) | ≥0.04 (1.02) | ±10% |
| ≥0.1875 (4.762) | ±10% |
3. テクニカルパラメータターンブリン・モリブデン合金板の標的 PVD:
1) 高度純度: ターンブリン・モリブデン合金板の標的は高度純度で,通常99.95%以上に達する.
2) 高密度: ターンブリン・モリブデン合金板の標的は高密度で,通常は18.5-19.0g/cm3の間にあります.
3) 良好な熱安定性: ターンブリン・モリブデン合金板の標的は良好な熱安定性を持ち,高温で物理的および化学的性質を変化しない状態に保ちることができます.
4) 耐腐蝕性: タングメン・モリブデン合金板の標的は耐腐蝕性があり,様々な化学環境で安定した性能を維持することができます.
4適用するターンブリンモリブデン合金板の標的:
1) 薄膜堆積: ワルフタン-モリブデン合金板の標的は,物理蒸気堆積 (PVD) などの様々な薄膜堆積技術で広く使用されています.マグネトロン噴射 (噴射)アークイオンプラチング (arc ion plating) など
電子機器: ワルフタン-モリブデン合金板の標的は,光伝導装置,超伝導材料,半導体装置など
3) 医療分野: タングメン・モリブデン合金プレート標的は,放射性原体生産などの医療分野でも広く使用されています.
結論としては,高純度,良好な熱安定性,耐腐蝕性,広範囲の応用分野があるため,ターンブリン-モリブデン合金板の標的は非常に重要な材料です.
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