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真空の放出させるコーティングのタングステン ターゲット タングステンの円形の版ターゲットW版のための3410±20℃タングステン プロダクト ターゲット

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x名前 | 真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲット | 材料 | 純粋なタングステン |
---|---|---|---|
純度 | 99.95% | 密度 | 19.3 g/cm3 |
融点 | 3410±20℃ | 表面 | 磨かれる |
サイズ | 顧客のデッサンによって | 標準 | ASTM B760 |
ハイライト | 磨かれたタングステン プロダクト,ASTM B760のタングステン プロダクト,99.95%タングステン ターゲット |
真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲット
1. 真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲットの記述:
タングステン ターゲットは何であるか。それは別名タングステンの放出させるターゲットである。それは原料として純粋なタングステンの粉から成っているプロダクトである。その出現は銀色の白である。それに優秀で物理的な、化学特性があり、多くの分野で非常に普及している。
大気および宇宙空間、希土類製錬、電灯の源、化学および医療機器、冶金の機械類、製錬装置、石油および他の企業は主にタングステン ターゲットを用いる。
2.真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲットのサイズそして許容:
項目名前 | マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲット |
純度 | 99.95% |
形 | あなたの要求に従う平らな/回転式ターゲット、 |
利用できるサイズ |
円形:dia 25~300mmの厚さ:<20mm> 長方形:長さ1500mmまで カスタム化は利用できる |
証明書 | ISO9001:2008年、SGSの第3テスト レポート |
技術 | 熱い地殻均衡押すこと |
適用 |
コーティングの加工産業で広く利用された :電子および半導体の適用。 B:装飾およびコーティングの適用。等. |
タングステンの放出させるターゲットは標準とアニールする作り出される
幅の許容:+/-1/32」
長さの許容:+1/16"、-0」
表面の終わり:磨かれる
標準:ASTM B760
3. 真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲットの特徴:
1) 高い純度;ターゲットの純度は焼結し、造ることの後で普通非常により99.95%達することができる。より高い目標資料の純度、他の要因が一定している残ればより少なくそれがありそう関連回路がショートするか、または損なわれればことならよりよいコーティングの電気質および、一般に。
2) 粉末や金を使用して押すDirectもっとすぐにそして生産周期を短くすることによって費用を救うことができる比較的公平な費用でされるかもしれない。
3) 高密度;焼結し、造ることの後で、望ましい密度は19.3g/cm3を超過するかもしれない。
4) ultra-fine純粋なタングステンの粉からなされる終了するターゲットに高い偏向の強さおよび一般に同質な、一貫した構成がある。
5) 優秀な熱化学安定性;か拡張、化学反応、等他の混合物との容積の収縮に対して抵抗力がある。
6)抵抗は低く、回路に不必要なエネルギーを発生させる。
さらに、それは無毒、非放射性であり、高い融点、高い伸縮性、低い拡張係数および低い蒸気圧がある。
真空の放出させるコーティングのためのタングステン ターゲットの4.Chemical構成:
品質規格(W) 99.95% | |||
要素 | 価値(要素 |
価値( | |
Fe | 5 | Mo | 10 |
NI | 3 | P | 1 |
Al | 2 | C | 5 |
Si | 3 | O | 3 |
カリフォルニア | 3 | N | 3 |
Mg | 2 |
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